[特集]基板の精密洗浄の効果について

 

共通仕様

構成 Glass/ITO, 50/HAT-CN,60/NPD,20/CBP+Irppy3[7%],30/BAlq,10/Alq,30/LiF,0.8/Al,150  単位:nm

基板サイズ □30

発光面積 □10弌滷渦媾/1基板

 

未洗浄基板を用いて作製した有機EL素子(3基板)の電力特性バラつきと発光表面

・図2の発光表面をもつ素子は、たまたまガラス基板表面にゴミがほとんど無かったため大きな

 ダーク・ライトスポットがなく、その電力特性は比較的正常な値がでている。

・図1の発光表面をもつ素子は、保護テープの粘着物残渣やガラスクズなどのパーティクルにより電極間ショートを

 起こし、表面にダーク・ライトスポットが発生している。また、各スポットで大きなショートが発生しているため、

 電力特性が低下、明るく発光できなくなっている。

・図3の発光表面をもつ素子は、表面にゴミが少し残っており、ダークスポットは図1に比べて少ないが、

 マイクロショートは発生しているので図1の特性よりも全体的に低下している。

 

簡易洗浄した基板を用いた有機EL素子(3基板)の電力特性バラつきと発光表面

・簡易洗浄を施した基板を用いて同時に作製した3素子の電力特性と発光表面を示す。

・簡易洗浄とは、有機溶媒と超音波洗浄器を用いて基板表面に付着している有機系残渣(保護テープ

 粘着剤やフォトレジストなど)を洗浄目標としたもの。ITOエッチンクや基板切断などのプロセス中に付着した

 サブマイクロオーダーのパーティクルや金属・イオン系不純物の除去はほとんどできない。これら不純物は、

 IVL特性に影響。影響が見えなくても寿命に効いたりする。

・洗浄内容:基板をアセトンにディップして超音波洗浄3分⇒IPA蒸気洗浄5分⇒UVオゾン洗浄15分

・大きなマイクロショートはないが、1では小さなライトスポットが発生しており、特性が若干低下してバラつきが

 生じている。

 

精密洗浄した基板を用いた有機EL素子(3基板)の電力特性バラつきと発光表面

・精密洗浄を施した基板を用いて同時に作製した3素子の電力特性と発光表面を示す。

・精密洗浄とは、半導体専用の有機・無機系不純物除去洗剤(2種類)と超純水(18MΩ、

 TOC<20ppb)、超音波洗浄器(2台、3波長)を組み合わせた洗浄手法。基板表面に

 付着している有機系残渣(保護テープ粘着剤やフォトレジストなど)に加え、ITOエッチンクや基板切断などの

 プロセス中に付着したサブマイクロオーダーのパーティクルや金属・イオン系不純物を洗浄目標としている。

・洗浄内容:Step1(有機系ゴミ除去) ⇒Step2(無機系ゴミ除去) ⇒IPA蒸気洗浄5分

 ⇒UVオゾン洗浄15分

・発光表面にダーク・ライトスポットはなく、3素子の特性はよく一致している。簡易洗浄に比べると

 輝度半減寿命の評価結果においても良好なものが多い。